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真空鍍膜機設備工藝的發展 |
發布時間:2013-12-30 瀏覽: 次 |
真空鍍膜設備工作原理是膜體在真空室內高溫下蒸發落在工件表面結晶,那么對于真空鍍膜機設備工藝的發展你了解多少呢?接下來由小篇與大家分享真空鍍膜設備是如何發展的。
真空鍍膜設備工作原理是膜體在真空室內高溫下蒸發落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發的膜體分子會產生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無光,所以必須在高真空下才能使結晶體細密光亮。產品推薦:真空鍍膜機。早期真空鍍膜設備是依靠蒸發體自然散射,其結果是結合差工效低光澤差。現在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺控濺射鍍膜機濺射出大量的靶材原子,解決了過去自然蒸發無法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等金屬。
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