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| 卷繞鍍膜設(shè)備的原理?？ |
| 發(fā)布時間：2025-01-20 瀏覽： 次 |
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?卷繞鍍膜設(shè)備的原理?主要包括真空卷繞鍍膜機(jī)和磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)兩種類型。 真空卷繞鍍膜機(jī)原理 真空卷繞鍍膜機(jī)主要由真空室、卷繞裝置、加熱系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成。在真空環(huán)境下，加熱系統(tǒng)將蒸發(fā)源材料加熱至熔化狀態(tài)，然后蒸發(fā)并凝結(jié)在薄膜材料表面形成所需鍍膜?？刂葡到y(tǒng)控制卷繞裝置的運(yùn)動，使薄膜材料連續(xù)通過蒸發(fā)源，直到所需厚度的鍍膜形成?1。 磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)原理 磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)采用磁控濺射(直流、中頻、射頻)的方法，將各種金屬、合金、化合物、陶瓷等材料沉積到柔性基材上，進(jìn)行單層或多層鍍膜。磁控濺射過程中，惰性氣體在高壓電場作用下電離成Ar+離子，這些離子高速撞擊靶材，使靶材原子濺射出來并沉積在基片上形成薄膜?。 應(yīng)用領(lǐng)域 卷繞鍍膜設(shè)備廣泛應(yīng)用于各種領(lǐng)域，包括包裝、裝潢、印刷、紡織、食品、防偽、卷煙和電子工業(yè)等。 本文由真空鍍膜機(jī)廠家愛加真空收集整理自網(wǎng)絡(luò)，僅供學(xué)習(xí)和參考! |
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