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| 真空鍍膜機有哪些主要特點與用途？ |
| 發布時間：2014-02-08 瀏覽： 次 |
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真空鍍膜機由真空鍍膜室、蒸發源、真空機組、卡具、蒸發電源、控制系統與輔助裝置等組成。 主要特點： 1、配有石英晶體或光學膜厚控制儀，可以實現膜厚鍍膜自動控制，實現高精度的鍍膜效果。 2、配RF離子轟擊裝置達到凈化基體表面的作用，使膜與基體表面附著力更好，提高膜層的強度。 3、可同時蒸鍍兩種以上不同的蒸鍍材料，可制成復合膜。 4、操作簡便、適應生產、科研的理想機。 5、具有過流、過壓保護及斷水、欠壓保護及電氣互鎖的功能。
真空鍍膜機可采用電阻加熱式蒸發源、電子束加熱式蒸發源和感應加熱式蒸發源。可以蒸發金屬、金屬氧化物和非金屬氧化物，適用于電子工業、光學工業的導電膜、光學膜、濾光膜、裝飾膜等
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