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真空鍍膜設(shè)備的檢漏方式

    真空鍍膜設(shè)備的檢漏方式多種多樣,本文最主要介紹鍍膜設(shè)備兩種高感度的檢漏方式。

    1.殘留氣體分析法殘留氣體分析使用四極濾質(zhì)器。通過(guò)分析真空腔體內(nèi)的殘留氣體,當(dāng)某種特定的氣體量多的時(shí)候可知有漏氣。如：有檢測(cè)殘留氣體的例子。沒有漏氣時(shí),質(zhì)量14,28,32的峰值分別是CH2,CO,O2如果有漏氣,則N,N2,O2會(huì)從大氣側(cè)流入,使相應(yīng)的質(zhì)量數(shù)峰值增加。

真空鍍膜設(shè)備的檢漏方式2

    探測(cè)法
從外部用氦氣吹向被檢測(cè)部,然后由連接在真空腔體上的氦質(zhì)譜檢漏儀來(lái)檢測(cè)侵入的氦氣,這種方式可檢測(cè)出極少的漏氣。
檢測(cè)氣體使用氦氣的原因如下：
1.氦氣在空氣中的存在量?jī)H為5ppm,如果有漏氣容易查清原因。
2.因?yàn)槭嵌栊詺怏w,在真空腔體內(nèi)不容易吸附在腔體上,容易放出。
3.從腔體放出的氣體中幾乎不包含氦氣。
4.沒有毒性。

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