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真空鍍鈦技術發(fā)展歷程和原理
發(fā)布時間:2014-07-23 瀏覽:  次

  一、 PVD(鍍鈦)技術的發(fā)展與應用

  PVD(物理氣相沉積)技術運用始于二十世紀七十年代末,起初是用在提高機械力學性能的硬質膜方面,制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學穩(wěn)定性等優(yōu)點。

  最初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國工具制造業(yè)的高度重視,人們在開發(fā)高性能、高可靠性涂層設備的同時,也在硬質合金、刀具中進行了更加深入的涂層應用研究。

  PVD工藝對環(huán)境沒有污染,符合現(xiàn)代環(huán)境保護的發(fā)展方向。

  鍍鈦工藝處理溫度可控制在150~500℃以下,因此鍍鈦工藝可用于多種材質基體的涂層,不僅具有多姿多彩的裝飾效果,更重要的是采用PVD技術可使涂層具有優(yōu)異的理化特性,大幅度強化基體表面諸如硬度、摩擦系數(shù)等物理特性指標。

  二、離子真空鍍膜技術的特點和用途

  真空離子鍍鈦應用的就是PVD技術。

  金屬在特定環(huán)境下(壓力,溫度,電磁場等)與各種氣體(氬氣,氮氣,氧氣及乙炔氣等)產生綜合作用形成等離子體,經過加速后,等離子體涌向被鍍工件表面,形成牢固的膜層。

  該鍍鈦膜層細密均勻,結合力強,硬度高,防腐耐磨,具有良好的導電性和自潤滑性能,同時色澤豐富多樣。

  因此真空鍍鈦不僅是提高材料使用性能的有力手段,在裝飾上同樣是提升檔次,提高附加值的最佳選擇。

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