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| 真空鍍膜機檢漏的目的是什么？ |
| 發布時間：2014-08-13 瀏覽： 次 |
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一個理想的真空鍍膜機，應當是不存在任何漏孔，不產生任何漏氣現象的。但是，對任何真空系統或真空容器來說，絕對不漏的現象是不可能的。 特別是在壓力極低的情況下，隨著漏氣現象的影響不斷加劇，真空度達不到預定的工藝要求，是一個相當普遍的問題。 為此，檢測真空鍍膜機或真空容器存在的漏氣部位、確定漏孔的大小、堵塞漏孔從而消除漏氣現，就成為真空技術工作者的一項重要工作。 所謂漏氣或稱實漏，它是指氣體通過真空系統上的漏孔或間隙，從高壓側流向低壓側的一種現象。真空檢漏技術中的一些常用基本概念主要有以下幾點。 (1)虛漏。 是相對于實漏而言的一種物理現象。這種現象大都是由于材料的放氣、解吸、凝解氣體的再蒸發或系統內存在死空間中氣體的流出等原因，而引起真空系統或容器中壓力升高的一種現象。 在真空檢漏作業時，需要排除虛漏的影響。 (2)氣密性。 它是表征真空系統或容器的壁對空氣不可滲透程度的一種性能。 (3)漏孔。 是指真空器壁上存在的形狀不定、極其微小的孔洞或間隙。大氣通過這種小孔或間隙進入真空系統或容器中。 (4)漏率。即漏氣速率。 它是指單位時間內通過漏孔或間隙流到真空系統或容器內的氣體量。 (5)最小可檢漏率。 它是指采用某種檢漏方法或儀器可能檢測出來的最小漏率。 (6)檢漏靈敏度。 或稱有效靈敏度，即檢漏儀器在最佳工作狀態下能檢測出的最小漏率。 (7)反應時間。 又稱響應時間，它是指從檢漏方法開始實施(如開始噴射示漏氣體)到指示方法或儀器指示值上升到其最大值的63%時所需要的時間。 (8)消除時間。 它是指從檢漏方法停止(如停止噴吹試漏氣體)到指示方法或儀器指示值下降到停止值的37 %時所需要的時間。 9)漏孔堵塞現象。 它是指由塵埃或液體所造成的漏孔堵塞，這些堵塞常常是指由于檢漏作業操作不當而導致發生的一種暫時現象，檢漏時似乎不漏氣，但一經排氣又會出現漏氣的一種現象。 相關閱讀 |
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