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| 真空銀納米顆粒技術分析 |
| 發布時間：2014-10-09 瀏覽： 次 |
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制備銀納米粒子的常用方法有物理方法和化學方法。化學方法包括溶膠凝膠法、電鍍法、氧化一還原法、靜電噴涂法。利用化學方法所得到的銀顆粒最小可達幾納米。 實驗簡單、方便，但所得銀顆粒不易轉移和組裝，且雜質含量較高，容易形成團聚大顆粒。 物理制備方法主要有真空蒸鍍、濺射底和離子鍍。 濺射鍍又包括直流濺射鍍、磁控濺射鍍、射頻濺射鍍、反應濺射鍍和新發展的微波控制的共濺射鍍等。真空蒸發方法是發展最早、應用最廣的銀納米粒子的制備方法，其原理簡單，操作方便。 通過控制蒸發參數可制備幾納米到幾十納米的顆粒，但所得納米粒子定向生長性差，納米粒子分散度大，顆粒形狀和粒度分布不均勻。 濺射方法是20世紀40年代開始發展的制備方法，在現代工業和科學研究中得到廣泛應用。濺射方法與蒸發方法一樣，操作簡單。 特別是1970年出現的磁控濺射技術，具有高速、低溫兩大特點，通過對濺射參數的控制，可以制備出幾納米到幾十納米的顆粒，所得納米顆粒尺寸小，定向生長性妤，顆粒形狀較整齊，粒度小，較均勻。離子鍍也是一種新型的制備方法，所制備的納米顆粒尺寸小，粒子形狀整齊，粒度也較均勻，但其設備較昂貴。 最新的納米粒子的制備設備是流動液面真空蒸鍍裝置，它可制備出0.1nm的團簇粒子，顆粒均勻度很高，是一種非常好的銀納米制備設備，但設備昂貴，不適合運用于工業生產中。 本文由愛加真空(http://www.xchuang.cn)收集整理，我公司專業銷售和維修進口真空鍍膜機及Polycold維修，歡迎來電咨詢! 推薦閱讀 |
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