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| 真空鍍膜機操作步驟？ |
| 發布時間：2014-12-16 瀏覽： 次 |
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1.清洗前，看片子是否短路，是否大小與樣品托合適，蒸鍍時放樣品托的架子升最高，且旋轉。 2.打開電流開關，及時打開ABC舟中一個，打開束源爐，及時打開其中一個啟動A、B等。 3.摻雜材料用量覆蓋舟底即可。 操作步驟： 1、打開總開關，包括冷卻水開關和機器開關。 2、打開鍍膜機總開關，樣品旋轉開關，升降開關按鈕。 3、將玻璃基板至于樣品托中，導電一面向下。 4、蒸鍍室、預處理室放氣。 5、打開蒸鍍室與預處理室之間的閘板閥(順時針方向關，逆時針方向開)，推拉桿推至大真空室中，將樣品放到推拉桿上，將推拉桿拉回至預處理中。關閉閘板閥(順時關閉，逆時針開) 6、打開快門控制電源，打開快門一，更換鎢絲(每做一次實驗更換一次)，將鋁絲掛在鎢絲上(5個，掛于彎折處)，檢查蒸鍍所需材料。 7、將掩膜版放置于掩膜版架上。 8、打開機械A、機械B泵。打開四個真空計，關閉放氣閥。 9、基片預處理(打開角閥)：當處理室真空度達到4.0E1 (4.0×10)Pa 時關閉預角閥，打開大真空室角閥，再打開紫外轟擊電源(直流濺射電源)，調節電流0.025-0.030A。轟擊10-15分鐘(等預處理室與蒸鍍室氣壓平衡，打開閘板)。 10、插入樣品托：再次打開蒸鍍室與預處理室之間的閘板閥(順時針方向開，逆時針方向關)，將樣品傳送至蒸鍍室，用機械手抓取樣品托，并保持在機械手上;然后將將推拉桿拉回至預處理中，關閉閘板閥;降低蒸鍍臺(注意樣品托擋板位置)與機械手平齊，將樣品托輕輕推入蒸鍍臺下方的樣品托導引槽(上方導引槽)。 11、插入掩模板：將樣品升降電源調到手動，將蒸鍍臺旋轉180度(用皮帶精確定位)，用升降盒使蒸鍍臺最下方的掩模板導引槽與掩膜版庫軌道，至于同一水平線上，用機械手將掩膜版輕輕推至蒸鍍臺的掩 模板導引槽。 12、當大真空室的壓強為1.2E1的時候，關閉角閥，打開閘板閥。 13、關閉機械泵A，升起樣品臺。 14、打開分子泵。抽到6.0-6.5E-4(大概需要兩個小時)。 15、蒸鍍過程：打開快門總開關，晶振開關(F1是清零，F5是開始或停止)。 16、打開PID(束源爐)開關，調節溫度，依次蒸鍍相關材料，制備OLED器件。 17、關閉分子泵閥門，放氣(真空室頂部放氣按鈕)。打開真空室，取出樣品。 18、關閉真空室，待分子泵數字為零時關閉分子泵后關閉機械泵B，打開機械泵A的閥門，打開機械泵A抽低真空。如果長時間不用時一定要關閉循環水冰柜電源，以防凍裂。
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