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| 動態和靜態真空漏率區別是什么？ |
| 發布時間：2015-01-16 瀏覽： 次 |
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動態真空系統允許漏率 所謂動態真空系統，指工作時泵仍然對它 進行抽氣的系統，如真空冶煉爐，真空鍍膜機，粒子加速器等。 例如：一臺鍍膜機，對蒸發室的有效抽速S為100L/S ，要求達到的極限壓力 P0 為1*10-5 帕，那么該鍍膜機的允許漏率[Ql]=(1/10)SP0=1*10-4 帕升/秒 靜態真空系統的允許漏率 所謂靜態真空系統，即工作時已與泵隔離的真空系統，一般又稱密閉容器或密閉器件，如顯 像管，電子管等。 例如：某只電子管，其內腔容積為 0.1L ，封離時的壓力 P0 為 1*10-7帕，電子管正常工作的最高壓力P1為1*10-3 帕，要求器件保存和工作的時間T為 50000H 。 那么，該電子管允許 漏率應為 [Ql]=(1/10)V ( P1-P0 ) /T=3.6*10-14 帕升/秒
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