高功率脈沖磁控濺射（HIPIMS）

    野馬真空系統（MVS）有在產業規模PVD沉積室，包括大面積HIPIMS陰極能夠提供廣泛的增強部件的耐磨性和性能的獨特結構的硬盤，摩擦學涂料生產的重要經驗。

    在2005年和2007年，MVS是在北美的第一個商業組織接受和使用電源（Chemfilt / SINEX的Huettinger）工業HIPIMS濺射應用。 自該日起顯著的進步和研發，導致其日常規范中的各種金屬和陶瓷的商業涂料應用。

    該技術適用于非常高的功率密度的脈沖（> 1000Wcm -2，可選擇的脈沖持續時間50-200μS和100-500Hz的頻率）的磁控管陰極產生異常高的等離子密度為10 19米-3或更大的順序。 這種脈沖的功率密度可以顯著更高水平電離（最多約80％）比通常出現在常規的磁控濺射工藝（約1-2％）釋放的靶表面的金屬物種。

樓盤，等Helmersson固體薄膜，513，1-2，2006，1-24。

    這些特性可以被用于產生顯著的變化，膜的密度和優選的生長方向/方位。 HIPIMS薄膜表現出非常光滑的表面，而不創造過量輻射采暖或宏觀粒子摻入通常使用時如發現電弧蒸發源。 這導致致密，粘附膜，即使在非常低的襯底溫度是從宏觀生長缺陷。