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| 真空鍍膜機鍍鋁層問題分析？ |
| 發(fā)布時間：2014-08-08 瀏覽： 次 |
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以下是進口真空鍍膜機維修專業(yè)人員愛加真空為各位收集整理的關于真空鍍膜機常見鍍鋁層出現(xiàn)的問題及相對應的解決方法，希望能幫到各位! 常見問題： 氧化層表面有點狀痕跡 解決方法： (1)預熔時電流過高或未加擋板。應適當降低預熔電流及加設擋板。 (2)蒸發(fā)電流過高。應適當降低 常見問題： 解決方法： 氧化層表面有流痕印跡 解決方法： (1)鍍件表面清潔不良。應加強清潔處理。 (2)擦拭鍍件時蘸用乙醇過多。應減少乙醇的蘸用量。 (3)手指接觸鍍件表面后留下指印。應禁止手指接觸鍍件表面。 (4)唾液噴濺到鍍件表面，使鍍層表面產(chǎn)生圈狀印跡。操作者應帶上口罩 常見問題： 解決方法： 氧化層表面發(fā)花 (1)氧化電壓太高，氧化層部分發(fā)藍。應適當降低電壓。 (2)各氧化點的電壓或氧化時間不相同。應使各氧化點的電壓和氧化時間保持一致。 (3)電解液溫度太高。應適當降低 常見問題： 氧化層表面有灰點 解決方法： (1)真空室底盤或室壁太臟。應使用乙醇擦拭干凈。 (2)夾具太臟。應按工藝規(guī)程定期清洗夾具 常見問題： 解決方法： 氧化層表面發(fā)紅 (1)陽極氧化電壓偏低，氧化層厚度不夠。應將電壓提高到120V左右。 (2)氧化時間太短，導致陽極氧化后表面發(fā)紅。應適當延長氧化時間 常見問題： 氧化層表面發(fā)黃 解決方法： (1)氧化電壓太高，氧化層太厚。應適當降低電壓。 (2)氧化時間太長。應適當縮短。 (3)氧化點太多。應適當減少 常見問題： 氧化后鍍層起泡脫落 解決方法： (1)鍍件表面油a8未除凈。應加強脫脂處理。 (2>真空度太低。應適當提高蒸發(fā)時的真空度。由于鋁是易氧化的金屬，又容易吸收氧，在低真空度下蒸發(fā)，會因吸收剩余氣體而形成茶褐色的氧化膜，導致反射率降低，鍍層易起泡脫落。通常預熔的真空度為0.067Pa;蒸鍍裝飾性的鋁膜，蒸發(fā)時的真空度可適當?shù)鸵恍话愫皖A熔的真空度相同;蒸鍍質(zhì)量要求高的鋁膜，真空度應當高一些，一般為(4—6.7)x10”h。 (3)鍍件表面有異物附著。可實施離子轟擊。一般蒸鍍鋁膜時進行離子轟擊的工藝條件 為：電壓2—3kV;電流60—140mA;時間5—30min 常見問題： 氧化后鍍層露底 解決方法： 鍍鋁層太薄。應適當延長蒸鍍時間，增加膜層厚度。通常，鋁膜厚度為(5—20)xlo—3mm，控制其厚度主要采用計時法，亦可根據(jù)膜層的透光程度來判斷膜厚，這些方法都需要操作人員具有豐富的實踐經(jīng)驗才能控制，但對裝飾鍍層用上述方法已足可滿足要求 常見問題： 氧化層厚度不足 (1)電解時間太短。應適當延長。 (2)氧化電壓偏低。應適當提高。 (3)接觸不良。應改進接觸方式，陽極(鎳針)與鍍件表面鋁層必須接觸良好。 (4)接觸點的數(shù)量不夠。應增加接觸點。對于面積較大的鍍件，應在120~的分度線上設三個氧化點。 (5)電解液溫度偏高。應適當降低。 (6)接觸點被擊穿。應變換接觸點】 常見問題： 氧化層表面有灰白細點 解決方法： (1)溶液中鋁含量增加。應更換部分溶液。 (2)電解液溫度太高。應適當降低。 (3)鍍件水洗不足，表面殘留電解液，在水分或潮濕氣體作用下形成灰白色的氫氧化鋁細點。應將氧化后的鍍件表面用蒸餾水洗凈電解液，然后擦干，最好是將氧化后的鍍件擦干后放人無水乙醇中浸1-2h，然后加溫到12.0~C保溫數(shù)小時 常見問題： 接觸點燒焦 解決方法： (1)鍍件與夾具接觸不良。應改善接觸條件，使其導電性能良好。 (2)氧化電壓過高。應適當降低。 (3)電解液濃度不正常。應按配方進行調(diào)整 2.鍍鋁層表面蒸鍍一氧化硅保護膜故障的排除 常見問題： 氧化層表面有針孔 解決方法： (1)鍍鋁層太薄。應適當延長蒸發(fā)時間。 (2)靜電除塵不徹底。應嚴格按照工藝要求進行靜電除塵。 (3)離子轟擊電流太大，時間太長。應適當減小離子轟擊電流，一般60—140mA。離子轟擊 規(guī)范應視鍍件材質(zhì)的耐熱程度來調(diào)整，以防鍍件變形。 (4)真空室和夾具太臟。應定期清潔真空室和夾具 常見問題： 氧化層脫邊 解決方法： (1)鍍件邊緣清潔不良，有拋光粉、汗?jié)n和污物等。應加強鍍件邊緣的清潔，擦拭時應帶上 工作手套。 (2)夾具不清潔。應徹底清潔夾具，特別應注意清潔夾具與鍍件邊緣接觸的部位 常見問題： 氧化層耐磨和耐蝕性能不良 解決方法： (1)電解液溫度偏高。應適當降低。 (2)氧化電壓偏低。應適當提高。 (3)電解時間太長。應適當縮短。 (4)電解液濃度過高。應適當降低。 (5)鍍鋁層被污染。應防止鍍件污染 常見問題： 膜層表面開裂 (1)一氧化硅的蒸發(fā)速度太快。應適當減慢。 (2)一氧化硅鍍膜太厚。應適當減少蒸發(fā)時間。一般鍍膜厚度為波長l的一半為宜。精密控制膜層厚度需用光電膜厚控制儀，簡單的方法亦可采用目測。目測法是根據(jù)表面的干涉色隨厚度增厚而變化的規(guī)律米控制膜厚，其表面顏色的變化規(guī)律為：黃一紅一紫一綠一黃一紅。 在蒸鍍時，若觀察到第二次干涉色為黃色或紅色時，立即停止蒸發(fā)，即可獲得適宜的膜厚。 (3)鍍后熱處理工藝條件控制不當。應按緩慢升溫和降溫的要求進行烘烤處理 常見問題： 氧化電壓升不高 解決方法： (1)接觸點被擊穿。應變換接觸點。 (2)電解液濃度不正常。應調(diào)整電解液濃度。 (3)接觸點接觸不良。應改進接觸方式 常見問題： 鍍鋁層表面呈藍灰色 解決方法： (1)鍍鋁層偏厚。應適當縮短蒸鍍時間。 (2)真空度太低。應適當提高蒸發(fā)時的真空度。 (3)蒸發(fā)速度太慢。應將蒸發(fā)速度提高至3x10—3mnl~$。 (4)蒸發(fā)源上無鋁，仍繼續(xù)加熱。應補加鋁絲或鋁箔。 (5)蒸發(fā)源上鋁材的純度太低。應使用純度為99.9%—99.99%的鋁絲或鋁箔 常見問題： 膜層表面發(fā)紅 解決方法： 一氧化硅鍍膜太薄。應適當延長蒸鍍時間 常見問題： 膜層不耐磨 解決方法： (1)一氧化硅鍍膜太薄。應適當延長一氧化硅膜的蒸發(fā)時間。 (2)鍍后熱處理工藝控制不當。應按工藝規(guī)程進行烘烤 相關閱讀 |
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