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| 電子束蒸發和磁控濺射鍍膜區別？ |
| 發布時間：2014-10-31 瀏覽： 次 |
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1.兩種鍍膜原理不同： 電子束蒸發鍍膜：利用高能電子束轟擊靶材，使材料表面產生很高的溫度，由固態直接升華到氣態，沉積到工件表面所形成的薄膜，主要運用在光學方面(如：眼鏡片的增透膜，CCD鏡頭，光通訊方面等等) 磁控濺射鍍膜：高能離子轟擊靶材，使靶材表面原子飛逸出來的過程稱濺射，那么采用磁場控制后，濺射出來的原子或二次電子以輪擺線的形式被束縛在靶材表面，使得輝光維持而進行濺射，主要運用在裝飾方面(如：鐘表，手機外殼等金屬表面) 2.膜的粘附性及結合的效果也不同。 電子束鍍膜的粘附性教差，但是膜的均勻性好;濺射的鍍膜濺射能量大，和基底的粘附性也好，但是膜會有顆粒也就是均勻性稍差。 電子束通常配備晶振片，對于已經校準的材料，10nm以下控制效果好，相反濺射出來的膜會有顆粒，10nm的厚度很難達到精準可控。 3.實用的材料不同，磁控濺射有射頻電源，可以做絕緣材料，也可以做金屬;但是電子束只能蒸鍍金屬。 推薦閱讀 |
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