技術中心
| 氮化鈦(TiN)涂層技術分析 |
| 發布時間：2014-10-31 瀏覽： 次 |
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氮化鈦涂層是自PVD技術發明以來，最常見的一種涂層，具有較高的性價比，也是之前運用的最廣泛的一種PVD涂層,它具有較高的薄膜硬度。 用磁控濺射方法沉積的氮化鈦沉積速度慢，表面顆粒小所以表面光滑，而且液滴等表面缺限少,但是表面硬度較低。 用磁控陰極弧的方法沉積的氮化鈦，沉積速度快，但表面顆粒大，所以表面光潔度較差，液滴等表面缺陷也較多，但是可以獲得較高的表面硬度。 推薦閱讀 |
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氮化鈦涂層是自PVD技術發明以來，最常見的一種涂層，具有較高的性價比，也是之前運用的最廣泛的一種PVD涂層,它具有較高的薄膜硬度。 用磁控濺射方法沉積的氮化鈦沉積速度慢，表面顆粒小所以表面光滑，而且液滴等表面缺限少,但是表面硬度較低。 用磁控陰極弧的方法沉積的氮化鈦，沉積速度快，但表面顆粒大，所以表面光潔度較差，液滴等表面缺陷也較多，但是可以獲得較高的表面硬度。 推薦閱讀 |
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